一、氧化爐用途
北京晶伏華控電子設備有限公司生產的熱處理氧化爐、實驗氧化爐主要用於在高溫環境下對所加工器件進行：氧化、擴散、燒結、退火、合金等工藝。
二、氧化爐主要技術性能指標
◆外型形式：臥式單管，1-4管可根據客戶需求定製
◆ 工作溫度：1280℃
◆加熱爐管有效口徑：Φ240mm
◆等溫區長度：800mm
◆控溫儀表：原裝進口，日本島電FP23、SR23高精度控溫系統
◆等溫區精度： 400℃--600℃ ±1℃600℃--1280℃ ±0.5℃
◆單點溫度穩定性： 400℃--600℃ ±1℃600℃--1280℃ ±0.5℃
◆升溫斜變能力： 可控升溫速度：15℃/min
◆ 升溫功率：26KW/管
◆保溫功率：13KW/管
◆氣路系統：氮氣+氧氣，帶濕氮發生器(含液位自動補水裝置)
◆流量計：質量流量計
◆氣路管件：進口原裝，長期使用不生鏽
◆氣路系統氣密性： 1×10-7Pa·m3/S
◆電源：三相五線380V、50Hz
◆工藝管：GE，配石英舟、石英帽等
◆熱電偶：S型
◆氣源：整個氣路系統包括質量流量計、手動閥門、電磁閥、進口內拋光316L不鏽鋼管、接頭等。每管配有氮氣+氧氣兩種工藝氣體。帶有溫度可控的濕氧發生器。濕氧發生器帶水位控制功能，水位實時顯示在觸摸屏上，當水位低於設定水位時系統自動補水。
北京晶伏華控電子設備有限公司可根據客戶需求定製各種非標: 氧化爐、熱處理氧化爐、實驗氧化爐、真空氧化爐、 高溫氧化爐、管式氧化爐、氧化燒結爐、氧化 擴散爐、氧化氣氛爐、氧化爐專用爐體 等各種工業、實驗室用熱處理氧化爐設備。
付款方式︰ 電議
