一、 立式扩散炉用途
JFHK系列立式扩散炉为我公司根据客户需求定制的立式微控太阳能电池专用设备，用于太阳能电池片生产过程中对硅片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺，该设备具有：关键部件进口、自动化程度高、温度均匀、控制稳定、寿命长等特点，是理想的科研及生产设备，目前广泛应用于全国各大科研院所及相关企业。
二、 立式扩散炉主要技术指标
1、外型形式：单管立式
2、硅片尺寸：156*156方片
4、 工作温度：1200℃
5、工艺管：优质气炼石英管
6、石英舟：两套立式石英舟
7、恒温区长度：300mm，单次可装载25片156*156方形硅片，背靠背装片模式
8、恒温区精度：±0.5℃ /300mm
9、单点温度稳定性、重复性：±0.5℃ /300mm
10、加热器：可移动式加热器，加热器及石英管可自动升降
11、送取片方式：手动送取片
12、扩散方式：设备配置真空系统，支持负压扩散方式
13、温度控制：日本原装 RKC 控温仪，三段控温方式
14、热偶：spike + profile 双热偶控温方式
15、加热元件：瑞典康泰尔电阻丝
16、气路：N 2 、O 2 、H 2 三路气体，气路管道为316L 耐腐蚀内抛光不锈钢管。
17、流量计：进口 MKS 质量流量计
18、气路系统密封性：1×10-7 Pa·M3 /S
19、真空系统：旋片真空泵
20、极限真空度：1.0*10-1 Pa
21、压升率：≤0.7Pa/h
22、真空计：德国 INFICON 品牌
23、控制系统：PLC+触摸屏控制方式，自动/手动切换方便，温度、流量按工艺自动调节
24、报警及保护：系统设有超温报警及保护、断偶报警及保护、真空系统阀门互锁保护、缺水报警及保护
25、尾气处理：设备配备尾气处理系统，采用溶液吸收法吸收尾气中的有害成分
26、冷水系统：设备配备冷水系统，用于保护密封装置及冷却加热器外壳
北京晶伏华控电子设备有限公司 可根据客户需求 定制 各种： 非标 立式炉、卧式炉、链式炉、 管式炉、高温炉、扩散炉、焊接炉、硒化炉、气氛炉、烤盘炉、扩散炉控制系统、真空炉、升华炉、隧道炉、氧化炉、退火炉、LPCVD炉、氢气炉、工业炉体等各种工业电炉、实验电炉等高温设备 。 专业团队 个性化定做 ，厂家直接供货，欢迎广大客户来电来函。
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