烤盘炉处理前
烤盘炉处理后
一、BAKE烤盘炉简介
BAKE炉、BAKE烤盘炉、MOCVD真空烤盘炉、真空烤盘炉为 LED 制造行业的一种新型的真空设备，与 MOCVD 设备配套使用，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，HCL)。主要用于有效清除 MOCVD 承受器（SiC 涂层石 墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。
二、BAKE烤盘炉用途
北京晶伏华控电子设备有限公司生产的烤盘炉、真空烤盘炉、MOCVD烤盘炉、CVD烤盘炉主要应用于LED行业MOCVD石墨盘的真空烘烤工艺。
三、BAKE烤盘炉主要技术参数
1、外型形式：卧式单管
2、 工作温度：1300℃
3、加热炉管有效口径：Φ340mm
4、石英管有效口径：Φ300mm
5、等温区长度：800mm
6、控温仪表：原装进口日本理化RKC FB400高精度控温仪
7、等温区精度：600℃--1300℃ ±1℃/800mm
8、单点温度稳定性：600℃--1300℃ ±1℃
9、 可控升温速度：15℃/min
10、 升温功率：34KW/管
11、保温功率：17KW/管
12、气路系统：每管氮气、氯化氢两路工艺气体 ,带混气罐
13、流量计：MFC+浮子流量计
14、气路管件：进口原装，长期使用不生锈
15、气路系统气密性：1×10-10 Pa·M3/S
16、控制系统：RKC高精度控制器+PLC+触摸屏方式，自动控制整个工艺流程
17、电源：三相五线380V、50Hz
北京晶伏华控电子设备有限公司可根据客户需求专业定制各种 真空炉、烤盘炉 、BAKE炉、BAKE烤盘炉、真空 烤盘炉、CVD烤盘炉、MOCVD烤盘炉、扩散炉、退火炉、合金炉、交换炉、焊接炉、IGBT焊接炉、氧化炉、气氛炉、升华炉、氢气炉、气氛炉、CVD炉及工业电炉专用炉体 等各种工业、实验室用热处理设备。
付款方式︰ 电议
